Bài thuyết trình Dùng phổ Raman và phổ quang phát quang: Nghiên cứu ảnh hưởng của tỉ lệ khí Oxy và sự ủ nhiệt đối với màng TiO2 chế tạo bằng PP phún xạ magneton phản ứng

Mục đích của bài thuyết trình Dùng phổ Raman và phổ quang phát quang: Nghiên cứu ảnh hưởng của tỉ lệ khí Oxy và sự ủ nhiệt đối với màng TiO2 chế tạo bằng PP phún xạ magneton phản ứng là nhằm nghiên cứu sự ảnh hưởng của tỉ lệ dòng Oxy đưa vào trong hệ phún xạ trong việc chế tạo màng, sự ảnh hưởng của nhiệt độ ủ trong quá trình hình thành cấu trúc của màng.
Nội dung trích xuất từ tài liệu:
Bài thuyết trình Dùng phổ Raman và phổ quang phát quang: Nghiên cứu ảnh hưởng của tỉ lệ khí Oxy và sự ủ nhiệt đối với màng TiO2 chế tạo bằng PP phún xạ magneton phản ứngQuang phổ Laser DÙNG PHỔ RAMAN VÀ PHỔ QUANG PHÁT QUANG NGHIÊN CỨU ẢNH HƯỞNG CỦA TỈ LỆ KHÍ OXY VÀ SỰ Ủ NHIỆT ĐỐI VỚI MÀNG TIO2 CHẾ TẠO BẰNG PP PHÚN XẠ MAGNETON PHẢN ỨNGQuang phổ LaserMỤC ĐÍCH: Nghiên cứu sự ảnh hưởng của tỉ lệ dòng oxy đưa vào trong hệ phún xạ trong việc chế tạo màng Nghiên cứu sự ảnh hưởng của nhiệt độ ủ trong quá trình hình thành cấu trúc của màngQuang phổ LaserGiỚI THIỆU: Chế tạo màng TiOx bằng phương pháp phún xạ magneton trực tiếp ở nhiệt độ phòng với tỉ lệ dòng oxy đưa vào khoảng 3-15% FO2 FO 2 %   100%  FO2  FAr  Sau đó đem ủ nhiệt ở 350-750oC Dùng phổ nhiễu xạ tia X, quang phát quang và phổ Raman để nghiên cứu tính chất của màngQuang phổ LaserTHÍ NGHIỆM: Dùng đế p-Si(100), làm sạch bởi H2SO4 và H2O Target Ti tinh khiết 99.99%, đường kính 2in và được áp vào nguồn DC 100W Đế được áp điện thế -150V Khoảng cách giữa đế và bia là 100mm Áp suất nền 2.7*10-4 Pa, Áp suất làm việc 2.7*10-4 Pa Thời gian phún xạ 40 phút Độ dày của màng từ 50-200nmQuang phổ LaserĐO TÍNH CHẤT MÀNG: Cấu trúc màng, thông tin phase (anatase hay rutile) đo bởi quang phổ kế tia X sử dụng bức xạ Cu Kα (0.1542nm). Made in Japan Các liên kết được đo bởi phổ Raman. Made in France Phổ PL dùng laser He-Cd 325nm 50mW, cách tử và CCDQuang phổ LazerLabRAM HR UV/Vis/NIR+ Ar ion CW Laser (514.5nm, 488nm) upto 40mW at sample.+ He-Cd CW Laser (325nm) -Auto motor controlled XY mapping stage Anatase Rutile Quang phổ Laser Anatase RutileAPPLICATION1- Paints, and Coating , emulsion widely used in painting, printing oilinterior Paints, Enamels paper making2- Road-Marking Paints Plastic3- Filler , Primers, and undercoat Rubber4- Paper Industry artificial fiber (sợi quang nhân tạo)5- Plastic Industry welding electric (hàn điện)6- Rubber Industry Enamel (tráng men)7- Cement Industry. electric appliances and construction material etc RESULTS AND DISCUSSION _ The deposition time was fixed at 40 min._ The crystalline (101)anatase peak denoted asA(101) at 25,3°._ The (110) rutile peakdenoted as R(110) at 27.4°can be easily observed fromthe TiOx thin film formed at 3FO2%. _ The intensity of anatase peaks at 3 FO2% is stronger than rutile peaks. GIXRD patterns of titanium oxide films _ As FO2% is higher than formed at: 3, 6, 10 and 15 FO2% and 6%, the rutile peaks cannot post-annealing at 750 °C for 2 min in air be detected. RESULTS AND DISCUSSION_ TiOx film annealed at350°C is still an amorphousfilm because of no distinctdiffraction peak._ The mixed crystallineanatase and rutile films areobtained after 550°C and750°C annealing._ The intensity of bothanatase and rutile peaksincreases with increasing GIXRD patterns of titanium oxide filmstemperature. formed at: 3 FO2% and post-annealed at RT, 350°C , 550°C , and 750°C for 2 min in air. RESULTS AND DISCUSSION_ The film at 3 FO2% showsseveral anatase peaks at 396and 639 cm−1 and rutile peaksat 449 and 612 cm−1._ The rutile peaks decreasewith increasing oxygen flowratio._ The intensity of anatasepeak decreaseswith increasingoxygen flow ratio due to the Raman spectra of titanium oxidereduction of film thickness. films formed at 3, 6, 10 and 15 FO2% and post-annealed at 750 °C for 2 min in air. RESULTS AND DISCUSSION_ The intensity of anatasepeaks at 396 and 639 cm−1and rutile peaks at 449 and612cm−1 increases withannealing temperature fromRT to 750°C, especially foranatase peaks. Raman spectra of titaniumoxide films at 3 FO2% and post- annealed at RT, 350 °C , 550 °C , and 750 °C for 2 min in air. RESULTS AND DISCUSSION The relationship between the crystalline structure and PL behaviors of titanium oxidesLaser excitation: 325 nm, atthe room temperature_ The weak shoulder peak at650 nm is induced from thelaser source._ An asymmetrical wideFWHM peak in visible region PL spectra of titanium oxide filmsis observed at the 3 FO2% formed at 3, 6, ...