Danh mục

New insights into CoFe/n-Si interfacial structure as probed by X-ray photoelectron spectroscopy

Số trang: 5      Loại file: pdf      Dung lượng: 487.51 KB      Lượt xem: 16      Lượt tải: 0    
tailieu_vip

Hỗ trợ phí lưu trữ khi tải xuống: miễn phí Tải xuống file đầy đủ (5 trang) 0
Xem trước 1 trang đầu tiên của tài liệu này:

Thông tin tài liệu:

X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) is a well known tool in studying the physical and chemical properties of surface/interfaces which provides the element specific, non-destructive and quantitative information. In the present study, information about the surface chemical states of interfacial structure of CoFe thin films on n-Si substrates has been studied from XPS technique.
Nội dung trích xuất từ tài liệu:
New insights into CoFe/n-Si interfacial structure as probed by X-ray photoelectron spectroscopy

Tài liệu được xem nhiều:

Tài liệu liên quan: