Nghiên cứu tính chất điện tử của cấu trúc dị thể graphen-Al2O3
Số trang: 7
Loại file: pdf
Dung lượng: 672.59 KB
Lượt xem: 12
Lượt tải: 0
Xem trước 2 trang đầu tiên của tài liệu này:
Thông tin tài liệu:
Trong bài báo này, chúng tôi nghiên cứu cấu trúc hình học và tính chất điện tử của cấu trúc dị thể giữa graphene và Al2O3 với hai kiểu xếp lớp khác nhau sử dụng phương pháp phiếm hàm mật độ kết hợp mô hình tương tác yếu van-der-Waals (vdW). Kết quả nghiên cứu chỉ ra rằng, tương tác giữa graphene và lớp đế A.
Nội dung trích xuất từ tài liệu:
Nghiên cứu tính chất điện tử của cấu trúc dị thể graphen-Al2O3NGHIÊN CỨU TÍNH CHẤT ĐIỆN TỬ CỦA CẤU TRÚCDỊ THỂ GRAPHENE-Al2 O3NGUYỄN VĂN CHƯƠNGBộ môn Vật liệu và Công nghệ vật liệu, Học viện Kỹ thuật Quân sựBÙI ĐÌNH HỢIKhoa Vật lý, Trường Đại học Sư phạm HuếTóm tắt: Trong bài báo này, chúng tôi nghiên cứu cấu trúc hình họcvà tính chất điện tử của cấu trúc dị thể giữa graphene và Al2 O3 với haikiểu xếp lớp khác nhau sử dụng phương pháp phiếm hàm mật độ kếthợp mô hình tương tác yếu van-der-Waals (vdW). Kết quả nghiên cứuchỉ ra rằng, tương tác giữa graphene và lớp đế Al2 O3 được đặc trưngbởi tương tác yếu vdW với khoảng cách giữa hai lớp là 3,45 ˚A và 3,32 ˚Atương ứng với các kiểu xếp lớp khác nhau. Đồng thời, dưới ảnh hưởngcủa lớp đế Al2 O3 , trong giản đồ vùng năng lượng của cấu trúc dị thểxuất hiện vùng cấm của graphene với độ rộng khoảng 50 meV. Sự xuấthiện vùng cấm của graphene mở ra rất nhiều ứng dụng cho graphene,đặc biệt trong các linh kiện điện tử và quang điện tử nano.Từ khóa: graphene, Al2 O3 , tính chất điện tử1GIỚI THIỆUVới cấu trúc hai chiều đơn lớp nguyên tử cacbon, độ linh động điện tử cao cỡ 200 000 cm2 /Vs,graphene được kỳ vọng thay thế Si trong các linh kiện điện tử và quang điện tử tương lainhư transistor hiệu ứng trường (FET) [1]. Tuy nhiên, một vấn đề lớn khi sử dụng graphenetrong các ứng dụng của linh kiện điện tử đó là graphene có khe năng lượng (vùng cấm)bằng không (gap-less). Đã có nhiều nghiên cứu khác nhau nhằm mục đích thay đổi cấutrúc phổ năng lượng của graphene, tức là tạo ra một khe năng lượng cho graphene. Cóhai phương pháp cơ bản để mở rộng khe năng lượng cho graphene. Phương pháp thứ nhấtlà dựa trên hiệu ứng giam giữ lượng tử, bằng cách tạo ra dải nano graphene một chiều(one-dimensional graphene nanoribbon) nhằm thay đổi giá trị các mặt năng lượng tại cácđiểm K và K’ [2, 3]. Dựa trên hiệu ứng giam giữ lượng tử, các nhà thực nghiệm và lýthuyết đã nghiên cứu tạo ra các dải nano graphene một chiều với bề rộng khoảng 10 nm,độ rộng vùng cấm của dải nano graphene được mở ra khi đó khoảng 200 meV. Tuy nhiên,Tạp chí Khoa học và Giáo dục, Trường Đại học Sư phạm, Đại học HuếISSN 1859-1612, Số 02(42)/2017: tr.54-60Ngày nhận bài: 10/5/2017; Hoàn thành phản biện: 10/6/2017; Ngày nhận đăng: 16/6/2017NGHIÊN CỨU TÍNH CHẤT ĐIỆN TỬ CỦA CẤU TRÚC DỊ THỂ GRAPHENE...55khảo sát cho thấy độ linh động điện tử trong dải nano graphene giảm đi đáng kể, chỉ cònkhoảng vài nghìn cm2 /Vs, chỉ tương đương độ linh động điện tử trong Si (1400 cm2 /Vs).Một phương pháp khác có khả năng thay đổi độ rộng vùng cấm của graphene đó là phávỡ tính đối xứng của mạng tinh thể lục giác graphene, bằng cách cho graphene tương tácvới một số lớp đế bán dẫn hoặc điện môi [4, 5].Sự tương tác giữa graphene và các lớp nền bán dẫn khác nhau đã được quan tâm nghiên cứutrong những năm gần đây, chẳng hạn như sự tương tác giữa graphene-SiC [6], graphenehBN (hexagonal boron nitride) [7], graphene-MoS2 [8]. Các nghiên cứu cho thấy sự quantâm rất lớn của các nhà khoa học tới sự tương tác của graphene với bề mặt các lớp đếkhác nhau, đặc biệt là đế bán dẫn, một thành phần không thể thiếu đối với các ứng dụnglinh kiện transitor trường, đồng thời mở ra một loạt các ứng dụng của graphene trong việcchế tạo các linh kiện điện tử kiểu mới có khả năng thay thế cho các linh kiện truyền thốngdựa trên Si. Tuy nhiên, cho đến nay vẫn còn nhiều vẫn đế còn chưa được sáng tỏ, cần đầutư nghiên cứu về bản chất và cơ chế của sự tiếp xúc giữa graphene với các lớp đế bán dẫn.Vì vậy, trong công trình này, chúng tôi tập trung khảo sát cấu trúc hình học, sự thay đổicấu trúc vùng năng lượng của graphene khi tương tác với bề mặt lớp nền bán dẫn Al2 O3sử dụng phương pháp phiếm hàm mật độ (Density Functional Theory – DFT). Ngoài ra,chúng tôi còn tiến hành khảo sát và tính toán năng lượng liên kết, cũng như sự truyềnđiện tích giữa graphene và bề mặt lớp nền bán dẫn Al2 O3 từ đó đề xuất các khả năng ứngdụng của vật liệu này trong lĩnh vực điện tử và quang điện tử.2MÔ HÌNH VÀ PHƯƠNG PHÁP NGHIÊN CỨUCấu trúc và tính chất điện tử của graphene, Al2 O3 và cấu trúc dị thể (heterostructure) giữachúng được tính toán bằng cách sử dụng lý thuyết phiếm hàm hàm mật độ (Density Functional Theory – DFT). Các tính toán theo mô hình lý thuyết DFT đã được thực hiện dựatrên gói phần mềm tính toán Quantum Espresso. Trong đó, các hàm giả thế (Projector Augmented Wave-PAW) và các hàm năng lượng trao đổi tương quan Perdew–Burke–Ernzerhofđã được chúng tôi sử dụng trong các tính toán. Năng lượng ngưỡng của sóng phẳng dùngđể tính toán là 410 eV. Để đảm bảo các tính toán có độ chính xác cao, trong nghiên cứunày năng lượng toàn phần được hội tụ về khoảng 10−6 eV và lực nguyên tử hội tụ vềkhoảng 0,001 eV/˚A. Điều này có nghĩa là, nếu giá trị sai khác của năng lượng toàn phầnvà lực nguyên tử giữa hai vòng lặp kế tiếp nhau lớn hơn các giá trị trên thì các tính toánsẽ tiếp tục được th ...
Nội dung trích xuất từ tài liệu:
Nghiên cứu tính chất điện tử của cấu trúc dị thể graphen-Al2O3NGHIÊN CỨU TÍNH CHẤT ĐIỆN TỬ CỦA CẤU TRÚCDỊ THỂ GRAPHENE-Al2 O3NGUYỄN VĂN CHƯƠNGBộ môn Vật liệu và Công nghệ vật liệu, Học viện Kỹ thuật Quân sựBÙI ĐÌNH HỢIKhoa Vật lý, Trường Đại học Sư phạm HuếTóm tắt: Trong bài báo này, chúng tôi nghiên cứu cấu trúc hình họcvà tính chất điện tử của cấu trúc dị thể giữa graphene và Al2 O3 với haikiểu xếp lớp khác nhau sử dụng phương pháp phiếm hàm mật độ kếthợp mô hình tương tác yếu van-der-Waals (vdW). Kết quả nghiên cứuchỉ ra rằng, tương tác giữa graphene và lớp đế Al2 O3 được đặc trưngbởi tương tác yếu vdW với khoảng cách giữa hai lớp là 3,45 ˚A và 3,32 ˚Atương ứng với các kiểu xếp lớp khác nhau. Đồng thời, dưới ảnh hưởngcủa lớp đế Al2 O3 , trong giản đồ vùng năng lượng của cấu trúc dị thểxuất hiện vùng cấm của graphene với độ rộng khoảng 50 meV. Sự xuấthiện vùng cấm của graphene mở ra rất nhiều ứng dụng cho graphene,đặc biệt trong các linh kiện điện tử và quang điện tử nano.Từ khóa: graphene, Al2 O3 , tính chất điện tử1GIỚI THIỆUVới cấu trúc hai chiều đơn lớp nguyên tử cacbon, độ linh động điện tử cao cỡ 200 000 cm2 /Vs,graphene được kỳ vọng thay thế Si trong các linh kiện điện tử và quang điện tử tương lainhư transistor hiệu ứng trường (FET) [1]. Tuy nhiên, một vấn đề lớn khi sử dụng graphenetrong các ứng dụng của linh kiện điện tử đó là graphene có khe năng lượng (vùng cấm)bằng không (gap-less). Đã có nhiều nghiên cứu khác nhau nhằm mục đích thay đổi cấutrúc phổ năng lượng của graphene, tức là tạo ra một khe năng lượng cho graphene. Cóhai phương pháp cơ bản để mở rộng khe năng lượng cho graphene. Phương pháp thứ nhấtlà dựa trên hiệu ứng giam giữ lượng tử, bằng cách tạo ra dải nano graphene một chiều(one-dimensional graphene nanoribbon) nhằm thay đổi giá trị các mặt năng lượng tại cácđiểm K và K’ [2, 3]. Dựa trên hiệu ứng giam giữ lượng tử, các nhà thực nghiệm và lýthuyết đã nghiên cứu tạo ra các dải nano graphene một chiều với bề rộng khoảng 10 nm,độ rộng vùng cấm của dải nano graphene được mở ra khi đó khoảng 200 meV. Tuy nhiên,Tạp chí Khoa học và Giáo dục, Trường Đại học Sư phạm, Đại học HuếISSN 1859-1612, Số 02(42)/2017: tr.54-60Ngày nhận bài: 10/5/2017; Hoàn thành phản biện: 10/6/2017; Ngày nhận đăng: 16/6/2017NGHIÊN CỨU TÍNH CHẤT ĐIỆN TỬ CỦA CẤU TRÚC DỊ THỂ GRAPHENE...55khảo sát cho thấy độ linh động điện tử trong dải nano graphene giảm đi đáng kể, chỉ cònkhoảng vài nghìn cm2 /Vs, chỉ tương đương độ linh động điện tử trong Si (1400 cm2 /Vs).Một phương pháp khác có khả năng thay đổi độ rộng vùng cấm của graphene đó là phávỡ tính đối xứng của mạng tinh thể lục giác graphene, bằng cách cho graphene tương tácvới một số lớp đế bán dẫn hoặc điện môi [4, 5].Sự tương tác giữa graphene và các lớp nền bán dẫn khác nhau đã được quan tâm nghiên cứutrong những năm gần đây, chẳng hạn như sự tương tác giữa graphene-SiC [6], graphenehBN (hexagonal boron nitride) [7], graphene-MoS2 [8]. Các nghiên cứu cho thấy sự quantâm rất lớn của các nhà khoa học tới sự tương tác của graphene với bề mặt các lớp đếkhác nhau, đặc biệt là đế bán dẫn, một thành phần không thể thiếu đối với các ứng dụnglinh kiện transitor trường, đồng thời mở ra một loạt các ứng dụng của graphene trong việcchế tạo các linh kiện điện tử kiểu mới có khả năng thay thế cho các linh kiện truyền thốngdựa trên Si. Tuy nhiên, cho đến nay vẫn còn nhiều vẫn đế còn chưa được sáng tỏ, cần đầutư nghiên cứu về bản chất và cơ chế của sự tiếp xúc giữa graphene với các lớp đế bán dẫn.Vì vậy, trong công trình này, chúng tôi tập trung khảo sát cấu trúc hình học, sự thay đổicấu trúc vùng năng lượng của graphene khi tương tác với bề mặt lớp nền bán dẫn Al2 O3sử dụng phương pháp phiếm hàm mật độ (Density Functional Theory – DFT). Ngoài ra,chúng tôi còn tiến hành khảo sát và tính toán năng lượng liên kết, cũng như sự truyềnđiện tích giữa graphene và bề mặt lớp nền bán dẫn Al2 O3 từ đó đề xuất các khả năng ứngdụng của vật liệu này trong lĩnh vực điện tử và quang điện tử.2MÔ HÌNH VÀ PHƯƠNG PHÁP NGHIÊN CỨUCấu trúc và tính chất điện tử của graphene, Al2 O3 và cấu trúc dị thể (heterostructure) giữachúng được tính toán bằng cách sử dụng lý thuyết phiếm hàm hàm mật độ (Density Functional Theory – DFT). Các tính toán theo mô hình lý thuyết DFT đã được thực hiện dựatrên gói phần mềm tính toán Quantum Espresso. Trong đó, các hàm giả thế (Projector Augmented Wave-PAW) và các hàm năng lượng trao đổi tương quan Perdew–Burke–Ernzerhofđã được chúng tôi sử dụng trong các tính toán. Năng lượng ngưỡng của sóng phẳng dùngđể tính toán là 410 eV. Để đảm bảo các tính toán có độ chính xác cao, trong nghiên cứunày năng lượng toàn phần được hội tụ về khoảng 10−6 eV và lực nguyên tử hội tụ vềkhoảng 0,001 eV/˚A. Điều này có nghĩa là, nếu giá trị sai khác của năng lượng toàn phầnvà lực nguyên tử giữa hai vòng lặp kế tiếp nhau lớn hơn các giá trị trên thì các tính toánsẽ tiếp tục được th ...
Tìm kiếm theo từ khóa liên quan:
Tính chất điện tử Cấu trúc dị thể graphen-Al2O3 Tính chất điện tử Linh kiện điện tử Quang điện tử nanoGợi ý tài liệu liên quan:
-
Báo cáo thực tập điện tử - Phan Lê Quốc Chiến
73 trang 243 0 0 -
Giáo trình Linh kiện điện tử: Phần 2 - TS. Nguyễn Tấn Phước
78 trang 227 1 0 -
Thiết kế, lắp ráp 57 mạch điện thông minh khuếch đại thuật toán: Phần 2
88 trang 207 0 0 -
Báo cáo môn học vi xử lý: Khai thác phần mềm Proteus trong mô phỏng điều khiển
33 trang 173 0 0 -
12 trang 149 0 0
-
ĐỒ ÁN: THIẾT KẾ HỆ THỐNG CUNG CẤP ĐIỆN CHO NHÀ MÁY CƠ KHÍ TRUNG QUY MÔ SỐ 2
91 trang 146 0 0 -
Báo cáo bài tập lớn môn Kỹ thuật vi xử lý: Thiết kế mạch quang báo - ĐH Bách khoa Hà Nội
31 trang 131 0 0 -
Đề tài: THIẾT KẾ HỆ THỐNG MÔ HÌNH ROBOT ĐỊA HÌNH QUÂN SỰ .
61 trang 104 0 0 -
Sửa chữa và lắp ráp máy tính tại nhà
276 trang 101 0 0 -
130 trang 80 0 0