Danh mục

Si nanowires grown by Al-catalyzed plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) on quartz substrates for solar cell applications

Số trang: 11      Loại file: pdf      Dung lượng: 857.44 KB      Lượt xem: 13      Lượt tải: 0    
tailieu_vip

Xem trước 2 trang đầu tiên của tài liệu này:

Thông tin tài liệu:

In this work, we have use a plasma-enhanced chemical vapor deposition process (PECVD) to grow the SiNWs from Al thin films directly deposited on quartz substrates, the Al-catalyzed SiNWs thus obtained have been characterized by scanning electron microscopy (SEM), transmission electron microscopy (TEM) and electrical measurements, including field- effect transistor evaluations.
Nội dung trích xuất từ tài liệu:
Si nanowires grown by Al-catalyzed plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) on quartz substrates for solar cell applications

Tài liệu được xem nhiều: